삼성전자·존스홉킨스대학, 펠티어 냉각 기술로 ‘2025 R&D 100 어워드’ 수상…미래 냉각 기술 선도

삼성전자가 존스홉킨스대학교 응용물리학연구소(Johns Hopkins APL)와 협력하여 개발한 차세대 펠티어 냉각 기술이 미국 R&D 월드 매거진(R&D World Magazine)이 주관하는 ‘2025 R&D 100 어워드(R&D 100 Awards)’의 ‘2025 R&D 100 어워드’의 100대 혁신 기술로 선정되었다. 이번 수상은 지난 1966년 설립된 R&D 100 어워드에서 57번째 수상이며, 삼성전자의 기술력을 국제적으로 인정받는 계기가 될 것으로 기대된다.

이번 연구는 고성능 컴퓨팅 장비, 데이터센터, 인공지능(AI) 서버 등 다양한 분야에서 발생하는 과열 문제를 해결하기 위한 핵심 기술로 평가받았다. 펠티어 효과를 극대화하여 냉각 효율을 획기적으로 개선하고, 기존 냉각 방식의 한계를 보완한 것이 주요 특징이다. 특히, 연구팀은 특수 소재 펠티어 냉각 모듈을 개발하여 냉각 성능을 30% 이상 향상시키는 데 성공했다.

존스홉킨스대학교 응용물리학연구소는 뛰어난 물리학적 지식과 첨단 연구 시설을 바탕으로 펠티어 냉각 기술의 효율을 높이는 데 기여했다. 연구소의 박사급 연구원들은 삼성전자의 기술 개발팀과 긴밀하게 협력하여 기술적 난제를 해결하고, 새로운 냉각 솔루션을 제시했다.

연구 결과, 삼성전자는 펠티어 냉각 기술을 활용하여 자사의 차세대 AI 서버의 발열량을 20% 감소시킬 수 있게 되었다. 또한, 이 기술은 데이터센터의 에너지 효율을 높이고, 냉각 시스템의 유지 보수 비용을 절감하는 데에도 기여할 것으로 예상된다.

삼성전자 R&D 센터 관계자는 “이번 수상은 삼성전자의 혁신적인 기술 개발 역량을 입증하는 결과”라고 평가하며 “앞으로도 지속적인 연구 개발을 통해 미래 기술 경쟁력을 강화해 나갈 것”이라고 말했다.

향후 삼성전자는 펠티어 냉각 기술을 다양한 제품에 적용하고, 관련 기술을 고도화하기 위한 연구 개발에 더욱 박차를 가할 계획이다. 또한, 이 기술을 기반으로 새로운 비즈니스 모델을 창출하고, 미래 냉각 기술 시장을 선도해 나갈 것으로 기대된다.